1、研磨後的清洗

研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表麵質量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要汙染物為研磨粉和瀝青，少數企業的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡麵被劃傷或腐蝕。研磨後的清洗設備大致分為兩種： 一種主要使用有機溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

2、鍍膜前清洗

鍍膜前清洗的主要汙染物是求芯油（也稱磨邊油，求芯也稱定芯、取芯，指為了得到規定的半徑及芯精度而選用的工序）、手印、灰塵等。由於鍍膜工序對鏡片潔淨度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方麵的問題。

頻率

深圳超聲波清洗設備工作頻率很低（在人的聽覺範圍內）就會產生噪音。當頻率低於20kHz時，工作噪音不僅變得很大，而且可能超出職業安全與保健法或其它條例所規定的安全噪音的限度。在需要高功率去除汙垢而不用考慮工件表麵損傷的應用中，通常選擇從20kHz到30kHz範圍內的較低清洗頻率。該頻率範圍內的清洗頻率常常被用於清洗大型、重型零件或高密度材料的工件。

低頻通常被用於清洗較小、較精密的零件，或清除微小顆粒。高頻還被用於被工件表麵不允許損傷的應用。使用高頻可從幾個方麵改善清洗性能。隨著頻率的增加，空化泡的數量呈線形增加，從而產生更多更密集的衝擊波使其能進入到更小的縫隙中。如果功率保持不變，空化泡變小，其釋放的能量相應減少，這樣有效地減小了對工件表麵的損傷。高頻的另一個優勢在於減小了粘滯邊界層